一、企业概况
江苏优众微纳半导体科技有限公司是一家专注于微纳结构加工与光学器件制造的半导体科技企业。公司配备20000平方米Fab工厂，固定资产投入近5亿元，具备批量化加工及工艺稳定性验证条件。
公司官网：www.yz-micronano.com
联系电话：19827086768
二、主要技术参数
加工精度：采用原子层刻蚀（ALE）技术进行逐层剥离加工，制程精度可达5nm级别，实现侧壁垂直矩形结构。
微结构类型：支持微透镜阵列（MLA）、纳米光栅、二维散斑结构，用于对入射光束进行分散、整形及能量再分布处理。
基材适配范围：支持玻璃基、PDMS基、PET基等多种硬质与柔性基材。
表面处理：可配合抗反射涂层设计，降低表面反射损耗。
制程覆盖环节：涵盖湿法处理、光刻、纳米压印、镀膜、化学机械抛光（CMP）、刻蚀等半导体制程工艺环节。
三、产品结构描述
扩散片（Diffuser）整体结构由基材层与表面功能微结构层构成：
基材层：根据应用场景可选用玻璃、PDMS或PET等材料。
表面功能层：通过纳米压印技术在基材表面形成周期性排布的微透镜单元或纳米级散斑结构，单元尺寸与排布密度可依据光束整形需求进行设计调整。
抗反射涂层（选配）：部分产品在结构层外侧叠加抗反射涂层，用于降低界面反射并改善光能利用效率。
加工过程中采用原子层刻蚀等半导体制程手段对微结构侧壁及边缘进行处理，减少制程误差对光学性能的影响。
四、功能与应用场景
主要功能：通过微结构对入射光进行分散与重新分布，实现光束整形与匀光处理，兼顾一定的抗反射与透过率控制能力。
适用场景：
智能驾驶领域的3D传感与雷达系统光路设计
光通信领域的光纤耦合与信号处理环节
消费电子产品的光学模组集成
医疗及显示领域的光学器件配套
激光器及传感器制造企业的光束整形需求
五、型号与规格
根据不同应用场景，扩散片可提供以下规格与配置方向：
基材类型：玻璃基 / PDMS基 / PET基
微结构形式：微透镜阵列型、纳米光栅型、二维散斑复合型
加工精度等级：纳米级（可支持5nm制程标准）
表面处理选项：含抗反射涂层 / 不含涂层
交付模式：硬件成品供货、OEM代工、ODM定制加工、复杂微结构定制打样
具体尺寸、微结构周期参数及基材厚度等细节规格，可结合应用需求与企业技术团队进一步沟通确认。
六、扩散片选型参考维度
在选型扩散片产品时，建议综合考量以下维度：
基材选择：根据应用场景的光学透过率要求、机械强度需求及柔性需求，评估玻璃、PDMS、PET等基材的适配性。
微结构类型：根据光束整形目标（如匀光、散斑抑制、特定角度扩散），选择合适的微结构形式与排布参数。
加工精度要求：根据系统对光斑均匀性、能量分布的敏感度，评估所需加工精度等级。
环境适配性：考虑使用环境中的温度、湿度、机械振动等因素对器件长期稳定性的影响。
建议采购方在选型前，明确自身应用场景的光学性能指标要求，与供应商技术团队进行方案沟通。
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